Extraktionslinse 1, 8900 ICP-MS m/ X-L.

Artikelnummer: G3666-60302
Kategorie: AdvanceBio
Hersteller: Agilent Technologies

Extraktionslinse 1 für Agilent 8900 ICP-MS mit X-L Konfiguration. Optimiert für hohe Empfindlichkeit und robuste Analyse unter anspruchsvollen Plasmabedingungen.

680,00 €

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Produktbeschreibung

Die Extraktionslinse 1 für das Agilent 8900 ICP-MS System ist ein hochwertiges Ersatzteil, gefertigt in den USA vom Hersteller Agilent Technologies. Speziell konzipiert für die Verbesserung der Ionenübertragung beim 8900 ICP-QQQ Gerät erhöht diese Linse die Empfindlichkeit und Signalstabilität, insbesondere unter robusten Hot-Plasma-Bedingungen. Die X-Linse unterstützt eine breite Palette von Anwendungen in der Elementanalytik, bei denen eine zuverlässige Matrixtoleranz und präzise Detektion erforderlich sind. Dieses Ersatzteil ist essenziell für Wartung und Reparatur und gewährleistet eine optimale Funktionalität des ICP-MS Systems.

Anwendungsbereiche

Die Extraktionslinse 1 ist ideal für Laboranwendungen in der Materialanalyse, Umweltanalytik, Analytik in der Halbleiterindustrie sowie in anderen Bereichen, die ultrasensitive und störungsfreie Spurenanalytik erfordern. Sie kommt zum Einsatz bei der Messung multielementarer Proben mit hoher Matrixbelastung, etwa in der Analyse industrieller und Umweltproben mit komplexen Matrices.

Vorteile

Erhöhte Empfindlichkeit und Ionendurchsatz für präzisere Messergebnisse
Optimiert für robuste Plasma-Settings mit hoher Matrixtoleranz
Ermöglicht zuverlässige und repeatierbare Analyse auch bei schwierigen Proben
Passgenaues Ersatzteil für Agilent 8900 ICP-MS Systeme zur langfristigen Stabilität
Unterstützt umfangreiche Anwendungsspektren vom Routineeinsatz bis zur Forschung

Technische Spezifikationen

Hersteller: Agilent Technologies
Produktart: Spare Parts (Ersatzteile)
Kompatibilität: Agilent 8900 ICP-MS m/X-L Konfiguration
Funktion: Extraktionslinse zur Optimierung der Ionentransmission
Material/Herkunft: Hergestellt in den USA
Empfindlichkeitssteigerung: Optimiert für Hot-Plasma-Anwendungen mit hoher Matrixbelastung
Unterstützt robuste Plasmabedingungen (CeO+/Ce+ ≤ 1%)

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